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3靶緊湊型磁控濺射鍍膜... 3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀是一種三頭1"射頻等離子體磁控濺射系統，設計用于非金屬薄膜涂層，主要用于多層氧化物薄膜。3靶緊湊...
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非導電薄膜等離子磁控濺... 非導電薄膜等離子磁控濺射鍍膜儀是一款緊湊型2英寸單頭射頻等離子磁控濺射系統，涂有非金屬，主要是氧化物薄膜。非導電薄膜等離...
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大功率直流磁控濺射鍍膜... 大功率直流磁控濺射鍍膜儀是一款高功率臺式磁控等離子濺射鍍膜機 ，帶有一個水冷2英寸靶頭，冷水機和可旋轉樣品架。大功率直流...
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單靶磁控濺射鍍膜儀 本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源）。...
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三靶磁控濺射鍍膜儀 產品簡介：CY-600-3HD三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研制開發的一款性價比較高的磁控濺射鍍膜儀，可用于制備單層或多...
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雙靶磁控濺射鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀CY-600-2HD為我公司研發的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電...
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四英寸四靶靶磁控濺射鍍... 用于金屬+非金屬 鈦膜、金膜、鉻膜、二氧化硅薄膜生長多層薄膜的制備，在電子領域、光學領域、有機物等領域均有應用，也可實驗...
